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首頁-技術文章-產(chǎn)品專區(qū)|頤光科技精選自研產(chǎn)品推薦

產(chǎn)品專區(qū)|頤光科技精選自研產(chǎn)品推薦

更新時間:2025-02-26      點擊次數(shù):486

頤光科技為您精選了多款光譜橢偏儀、反射膜厚儀自研產(chǎn)品。

   

光譜橢偏儀

ME-L穆勒矩陣橢偏儀  

ME-L是一款全自動高精度穆勒矩陣光譜橢偏儀,擁有行業(yè)前沿的光路調制技術,采用半導體制冷式探測器,具有超高靈敏度和極快的信號采集速度,同時也包括消色差補償器、雙旋轉補償器同步控制、穆勒矩陣數(shù)據(jù)分析等。

ME-Mapping光譜橢偏儀  

ME-Mapping光譜橢偏儀可以滿足大尺寸晶圓的多點自動化掃描測量需求,自定義繪制測量路徑,支持實時顯示膜厚分布以及數(shù)據(jù)匯總。設備采用雙旋轉補償器調制技術,直接測量16階穆勒矩陣,可獲取更多樣件信息。具有寬光譜消色差補償技術以及儀器精密校準算法,大大提升測量準確度和精度,廣泛應用于設備廠商/Fab級鍍膜均勻性快速測量表征。

SE-VM光譜橢偏儀  

SE-VM光譜橢偏儀可實現(xiàn)科研/企業(yè)級高精度快速光譜橢偏測量,支持多角度,微光斑等高兼容性靈活配置,多功能模塊定制化設計,廣泛應用于光通訊/OLED/TP/透明導電膜等涉及透明襯底鍍膜測量表征應用。


反射膜厚儀

SR-C反射膜厚儀  

SR-C反射膜厚儀采用微納米薄膜光學創(chuàng)新測量技術,應用于各式光學薄膜膜厚快速表征。

SR-Mapping反射膜厚儀  

SR-Mapping反射膜厚儀利用反射干涉的原理進行無損測量,提供半導體級Mapping測量解決方案,應用于成膜設備/Fab級鍍膜等大尺寸薄膜均勻性自定義多點分布測量。

 SR-M顯微膜厚儀  

SR-M顯微膜厚儀采用微米級聚焦光斑,同時利用顯微物鏡定位測量點,針對特定微小區(qū)域實現(xiàn)微區(qū)厚度精準表征。

 EOF系列  

EOF系列膜厚儀采用Mapping測量機臺,支持多種測頭參數(shù)定制,配備圖像識別功能,一鍵完成整片自動測量。



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